从晶片制造业的兴起到今天，洁净室运营商与污染之间的战斗就没有停止过。当前的晶片工厂中，原本无害的分子污染物现在有可能会危害到产品表面并且在洁净室环境中与电、湿气和其他化学物质相互作用，在光学镜片上形成薄雾、附着在晶片上，甚至污染专门用来保护它们的微环境。

Air Liquide Electronics公司Balazs分析服务办公室高级技术顾问Mark Camenzind说，“这个领域在不断发展，当我们发现用来控制和分析悬浮在空气中的分子污染物（AMC）的办法时，就已经意识到基本上无法完全控制它们，这就像剥洋葱皮，剥掉一层还有一层，每向前迈进一步，我们都可以从中学到很多新东西。”Air Liquide Electronics公司是一家专门从事半导体、工业和医用气体、化学制剂、设备相关服务的跨国工业集团。

晶片制造商不断在压缩晶片尺寸并且生产出更复杂的微米级元件，在这些制造环境下，解决污染问题的工具的发展速度却没有迅速跟上来。

Particle Measuring Systems公司分子污染物产品经理Steven Rowley说，“到目前为止还没有完善而且通用的AMC解决办法，但是所有公司都逐渐开始重视分子污染物的监测和控制策略以降低风险。”Particle Measuring Systems公司总部设在哥伦比亚Bolder，主要产品包括空气、气体和液体微粒计数器。

Entegris公司驻美国加利福尼亚州圣地亚哥办事处市场推广总监Jitze Stienstra提出成立专门处理这类问题的污染物控制方案业务小组。他说：“污染控制之所以会越来越重要是因为是晶片尺寸越来越小，这意味着有更多的工艺会因此受影响。”

Stienstra认为，通过多层过滤实现“全面污染控制”是最好的解决方案。把用来清洁周围空气的预处理过滤器、达到工具水平的化学过滤器和在高度灵敏的封闭环境中用来净化空气的末端净化器三者有机地结合起来，可以与周围的空气彻底隔离开、形成最耐用的系统。他说：“它首先处理的是工厂周围的空气，然后再解决工具的污染问题，最后实现微米清洁。”

晶片工厂运营商更依赖实时监控技术来获得准确的一手资料——在工厂里，特别是在光刻设备的周围会出现什幺样的污染物，会在什么地方、什幺时候出现。

Stienstra说：“所有的解决方案都必须根据工厂的实际要求定制，这样晶片工厂的经营者才能在负担得起的环境下有效地管理污染并且解决问题。”